含氟廢水氟離子濃度分析儀可應用于芯片蝕刻液（如含 HF 的刻蝕液）、清洗水系統(tǒng)中，實時監(jiān)測蝕刻液中氟離子濃度。

儀器介紹

上海玄天FT-7000型含氟廢水氟離子濃度分析儀基于氟離子選擇性電極（F? ISE）技術，通過氟化鑭單晶膜對氟離子的特異性電位響應實現(xiàn)實時氟離子濃度監(jiān)測，廣泛應用于需要精準控制氟離子含量的場景，可實時監(jiān)測工業(yè)廢水處理、環(huán)境監(jiān)測、飲用水等領域中氟離子的濃度。 

技術特點

集成溫度傳感器和測量參比電極，無需化學試劑即可完成測量；

具有響應速度快的特點，響應時間≤30秒；

支持標準溶液或現(xiàn)場溶液自動校準，無需預處理樣品，適合連續(xù)在線監(jiān)測；

隔離的4～20mA電流輸出，通訊接口可選擇RS-485，便于接入PLC/DCS控制系統(tǒng)。

含氟廢水氟離子濃度分析儀典型應用場景

1，工業(yè)廢水除氟處理

可用于冶金、化工、磷肥廠、半導體工廠的廢水排放口實時監(jiān)測氟離子濃度，GB8978《污水綜合排放標準》要求氟化物排放濃度≤10mg/L（一級標準），通過在線監(jiān)測指導加藥（如氯化鈣生成 CaF?沉淀）或膜處理（如反滲透），確保氟離子達標排放。

2，半導體與電子工業(yè)

可應用于芯片蝕刻液（如含 HF 的刻蝕液）、清洗水系統(tǒng)中，實時監(jiān)測蝕刻液中氟離子濃度（通常10~50g/L），確保刻蝕速率穩(wěn)定；廢水處理后氟離子需≤1mg/L，避免污染地下水（半導體行業(yè)環(huán)保要求高于國標）。

技術指標

產(chǎn)品型號： FT-7000

測量范圍： 0-10000mg/L（可定制）

檢測下限： 0.01mg/L

顯示方式： LCD背光顯示，耐溫至80℃不變黑

精 確  度： ±5%FS

壓力范圍： ≤0.1Mpa

溫度范圍： 0～80℃

外殼材質： 塑殼

校準方式： 標液校準、現(xiàn)場校準

電 纜  線： 標配5m（可延長）

繼 電  器： 3組繼電器

電流輸出： 4～20mA電流輸出

數(shù)字輸出： RS-485數(shù)字通訊

供電電源： AC220V/DC24V

安裝方式： 浸入式/流通式/管道式

防護等級： IP68